Plasma，也就是等离子体，等离子体是一种由 自由电子和带电 离子为主要成分的物质形态，广泛存在于 宇宙中，常被视为是物质的第四态，被称为等离子态，或者“超气态”，也称“电浆体”。 · plasma是一套kde的设计和基于qt5的实现，有着于以往非常不同的体验，几乎是重写。 你可以认为类似于大版本号的东西。 刚刚做完plasma，回答一下plasma吧。 做之前，已经查了很多资料，我以为准备要做的是co2，看了知情书后才知道是plasma. 大概需要做三次。 Particle： 低压下，杂质少，工艺control容易 3. Pressure 降低->粒子数减少， mfp增加 2. Plasma etch 为什么需要low pressure plasma etch的开发方向为 low pressure， high density plasma。 为什么需要低压呢？ 1. 尝鲜了一下。 说下最直观的感受， wayland 下终于可以开启4k真缩放且没有模糊感了。喜大普奔。以往高分屏+kde+wayland的组合是真的用不了一点。 kde6 总算解决了。（是不是真的完全解决了，还需要更多时间体验，目前刚更新） 然后更新了很多地方对于touch操作的支持，很明显，kde是想往移动端上发力. Sheath potential：pressure 降低…
Plasma Fire: Fact Or Fiction?
Plasma，也就是等离子体，等离子体是一种由 自由电子和带电 离子为主要成分的物质形态，广泛存在于 宇宙中，常被视为是物质的第四态，被称为等离子态，或者“超气态”，也称“电浆体”。 · plasma是一套kde的设计和基于qt5的实现，有着于以往非常不同的体验，几乎是重写。 你可以认为类似于大版本号的东西。 刚刚做完plasma，回答一下plasma吧。 做之前，已经查了很多资料，我以为准备要做的是co2，看了知情书后才知道是plasma. 大概需要做三次。 Particle： 低压下，杂质少，工艺control容易 3. Pressure 降低->粒子数减少， mfp增加 2. Plasma etch 为什么需要low pressure plasma etch的开发方向为 low pressure，...
